衬底材料对热蒸发法制备TiO 2 薄膜的影响

发布时间：2024-05-16 03:45

　　为了探究TiO₂薄膜在不同衬底材料上的光学特性和激光损伤阈值,以高阻硅、熔石英和k9玻璃为衬底材料,采用真空热蒸发方法制备TiO₂薄膜,利用变角度宽光谱椭偏仪、紫外可见分光光度计和激光损伤测试系统表征不同衬底上薄膜的膜厚、折射率、消光系数、透过率、光学带隙以及激光损伤阈值。研究结果表明:对比3种衬底材料,高阻硅上沉积的TiO₂薄膜具有高的折射率和低的消光系数;熔石英上沉积的TiO₂薄膜具有高的透过率和宽的光学带隙;k9玻璃上沉积的TiO₂薄膜具有窄的光学带隙,熔石英和k9玻璃上TiO₂薄膜的激光损伤阈值相差不大。不同衬底上沉积的薄膜结构不同,导致性能不同。

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【文章目录】：
1 实验材料及方法
    1.1 样品制备
    1.2 样品测试
2 结果与讨论
    2.1 不同衬底对薄膜光学常数的影响
    2.2 玻璃衬底对薄膜透过率和光学带隙的影响
    2.3 不同衬底对薄膜激光损伤特性的影响
3 结论



本文编号：3974640