电流强度对UHMWPEF机织布表面电晕处理性能的影响
发布时间:2021-12-01 19:35
针对超高相对分子量聚乙烯纤维机织布(UHMWPE Fiber Woven Fabric)表面浸润性差、与树脂基体界面黏结度低的缺点,采用等离子电晕放电处理方法对其表面进行改性,利用扫描电子显微镜(SEM)、高湿界面张力仪、傅里叶红外光谱(FTIR)及X射线光电子能谱(XPS)等测试手段探究改性前后机织布表面的物理性质和化学结构变化情况。结果表明:经过改性处理的机织布,其表面在SEM下呈现较明显的蚀坑,特别是丝束搭接处蚀坑密度大;机织布表面水接触角随着电流强度增加而逐渐减小,润湿性增强;机织布表面明显引入了羟基、羰基和羧基等基团,且随着电流强度增加,机织布表面的含氧基团增加。
【文章来源】:北京服装学院学报(自然科学版). 2020,40(02)北大核心
【文章页数】:5 页
【部分图文】:
电晕处理前后UHMWPEF机织布的SEM对比(×5 000)(处理时间均为4 s,下同)
图2为电晕处理前后UHMWPEF机织布样品的红外谱图。对比可知,未经电晕处理前,吸收峰主要在2 915、2 856、1 471、726 cm-1处,其中2 915 cm-1和2 856 cm-1处为CH2在拉伸时的振动吸收峰,1 471 cm-1和726 cm-1处为CH2在弯曲时的振动吸收峰[7];电晕处理后UHMWPEF机织布试样在3 300 cm-1附近生成一个较宽的谱带,1 723、1 639、1 279 cm-1附近生成明显的吸收峰,1 080 cm-1附近生成较宽的谱带,且以上吸收峰的强度随电流增大而不断增强,726 cm-1附近的吸收峰强度也随电流升高不断增强。已知3 300 cm-1附近为羧酸中羟基(O—H)的吸收峰、一般宽而钝,1 723 cm-1和1 639 cm-1附近为羰基 (C = Ο) 的吸收峰,1 279 cm-1和1 080 cm-1附近为碳氧键(C—O)的吸收峰[8]。可见电晕处理除使试样表面变得粗糙,还可使表面产生O—H、 C = Ο 和C—O等极性基团。这主要是由于电晕处理过程中产生的臭氧分子使机织布表层分子氧化,产生羰基化合物、过氧化物等。随着电流强度增加,臭氧分子产生的越多,表层分子反应程度加剧,致使吸收峰的峰值越大。图2 电晕处理前后UHMWPEF机织布的红外谱图
电晕处理前后UHMWPEF机织布的红外谱图
【参考文献】:
期刊论文
[1]电晕处理对超高分子量聚乙烯纤维表面性能的影响[J]. 戚东涛,陶继志,王秀云. 材料科学与工艺. 2006(05)
硕士论文
[1]基于UHMWPE/环氧树脂复合的纤维表面改良研究[D]. 肖佳颖.苏州大学 2018
本文编号:3526929
【文章来源】:北京服装学院学报(自然科学版). 2020,40(02)北大核心
【文章页数】:5 页
【部分图文】:
电晕处理前后UHMWPEF机织布的SEM对比(×5 000)(处理时间均为4 s,下同)
图2为电晕处理前后UHMWPEF机织布样品的红外谱图。对比可知,未经电晕处理前,吸收峰主要在2 915、2 856、1 471、726 cm-1处,其中2 915 cm-1和2 856 cm-1处为CH2在拉伸时的振动吸收峰,1 471 cm-1和726 cm-1处为CH2在弯曲时的振动吸收峰[7];电晕处理后UHMWPEF机织布试样在3 300 cm-1附近生成一个较宽的谱带,1 723、1 639、1 279 cm-1附近生成明显的吸收峰,1 080 cm-1附近生成较宽的谱带,且以上吸收峰的强度随电流增大而不断增强,726 cm-1附近的吸收峰强度也随电流升高不断增强。已知3 300 cm-1附近为羧酸中羟基(O—H)的吸收峰、一般宽而钝,1 723 cm-1和1 639 cm-1附近为羰基 (C = Ο) 的吸收峰,1 279 cm-1和1 080 cm-1附近为碳氧键(C—O)的吸收峰[8]。可见电晕处理除使试样表面变得粗糙,还可使表面产生O—H、 C = Ο 和C—O等极性基团。这主要是由于电晕处理过程中产生的臭氧分子使机织布表层分子氧化,产生羰基化合物、过氧化物等。随着电流强度增加,臭氧分子产生的越多,表层分子反应程度加剧,致使吸收峰的峰值越大。图2 电晕处理前后UHMWPEF机织布的红外谱图
电晕处理前后UHMWPEF机织布的红外谱图
【参考文献】:
期刊论文
[1]电晕处理对超高分子量聚乙烯纤维表面性能的影响[J]. 戚东涛,陶继志,王秀云. 材料科学与工艺. 2006(05)
硕士论文
[1]基于UHMWPE/环氧树脂复合的纤维表面改良研究[D]. 肖佳颖.苏州大学 2018
本文编号:3526929
本文链接:https://www.wllwen.com/projectlw/qgylw/3526929.html