Ta-10W/Ti的高温界面反应研究

发布时间：2025-05-01 07:36

　　 采用多弧离子镀技术在金属钛表面成功制备出连续致密且厚度均匀的α-Ta相Ta-10W涂层。在900℃下分别对涂层进行高温氧化和真空扩散处理,通过XRD、SEM、EDS等分析测试手段对涂层的抗氧化性能及元素扩散行为进行研究。结果表明:在高温氧化过程中,存在氧化和扩散双重作用,涂层与基体间发生相互扩散且涂层表面形成氧化膜,致使涂层脆化,但涂层/基体界面处氧化不明显,说明Ta-10W涂层对基体起到了有效的抗氧化作用;在真空扩散过程中,Ta向基体中扩散较为剧烈且沿着逐渐趋直的α-Ti晶界进行扩散。

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【文章目录】：
0 引言
1 实验
2 结果与分析
    2.1 沉积态涂层的组织结构分析
    2.2 高温氧化态涂层组织结构分析
        2.2.1 涂层表面和截面形貌分析
        2.2.2 氧化后涂层物相及结构分析
    2.3 真空高温扩散行为分析
        2.3.1 涂层表面与界面形貌分析
        2.3.2 真空扩散后试样物相分析
3 结论



本文编号：4041899