基于NPLS的静压比对高超声速光学头罩冷却气膜影响作用研究

发布时间：2021-05-19 06:04

　　超声速冷却气膜是应用于高超声速成像制导飞行器上的一项关键技术,静压比是影响超声速冷却气膜流场发展的重要因素。为研究静压比对该流场的影响规律,在M6高超声速风洞中采用基于纳米粒子的平面激光散射技术,对不同静压比下的马赫数3超声速冷却气膜流场进行了实验研究,获得了流场的瞬态流动显示图像。通过瞬态流动显示图像分析,研究了高超声速主流与超声速喷流之间边界面的发展过程;通过分形维数及间歇性分析,研究了静压比对湍流化程度的影响。结果表明在波系结构、喷流厚度及湍流化程度等方面,静压比对超声速冷却气膜产生了明显的影响:气膜总体厚度和静压比正相关,欠压状态和匹配状态气膜厚度增长先慢后快,过压状态先快后慢;欠压状态和匹配状态湍流破碎因子在流场前段普遍小于过压状态,但其沿流向增长较快,最终压力匹配状态湍流破碎因子最大,湍流化程度最高。 

【文章来源】：空气动力学学报. 2019,37(05)北大核心CSCD

【文章页数】：8 页

【文章目录】：
0 引言
1 试验模型及方法
2 试验结果及分析
    2.1 无喷流后台阶流场流动显示及静压测量
    2.2 不同RSP下喷流流场流场显示结果
    2.3 分形维数分析
    2.4 间歇性分析
3 结论


【参考文献】：
期刊论文
[1]渐扩后倾肩臂孔平板气膜冷却特性数值模拟[J]. 黄康,马护生.  空气动力学学报. 2017(06)

博士论文
[1]高超声速光学头罩的超声速冷却气膜及其气动光学机理研究[D]. 付佳.国防科学技术大学 2017
[2]超声速光学头罩流场精细结构及其气动光学效应的机理研究[D]. 田立丰.国防科学技术大学 2011



本文编号：3195259